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【应用推荐】ALD设备制造理想之选-730
发表时间:一月 31, 2019  作者:  标签:新闻中心
ALD–Atomic Layer Deposition 原子层沉积,是在基底材料表面制备原子级别的沉积层. 而ALD关键技术需要精确控制工艺的环境参数,其反应器压力需要严格保持在合适的真空条件下,此时通过对反应物的时序脉冲喷射,才能达到准确沉积的效果。借助于Setra(西特)在电容式压力测量领域逾50年的经验积累, 730型真空电容式压力计无论从产品设计、制造工艺、品质管理,还是从成本控制等诸多方面,都是ALD设备制造商的理想之选。
730关于
Setra 730型真空电容式压力计
Setra(西特)730型真空电容式压力计是一款高精度的电容式压力计(亦称电容式膜片真空计 (CDG)),适合在光伏、半导体和工业市场中测量对过程控制至关重要的低真空范围。该产品读数精度达±0.5%,分辨率高,优于同类产品。730 型使用全InconelTM 接液材料,可承受半导体加工过程中的腐蚀性介质。由于采用直接测量设计,它能精确测量介质,不受应用中气体混合物成分的影响。

730
产品特点
高精度,±0.5%读数张紧的膜片保证优异的性能工作温度补偿范围宽回路噪声低,响应快

不易受环境条件变化影响

出色的抗过压设计

符合CE和RoHS规范

产品竞争优势
适合苛刻应用的高性能产品
采用单膜片可变电容感应元件,适用于苛刻的半导体和工业真空应用。它具有读数精度和分辨率高、动态范围宽的特点,使之成为关键制造过程中的理想选择。Inconel® 设计保证通用性
所有接液部件均采用Inconel® 材料, 因此对半导体和工业真空过程中的腐蚀性介质具有极高的耐受性。Inconel®材料结合全焊接结构, 确保730型在这类应用中的长使用寿命。 

直接压力测量
内置膜片可在使用点直接测量压力变化。与其他工业电容式压力计不同,730型测量直接压力, 不受被测混合气的影响,这使其精度优于间接测量型压力计。

产品应用
半导体处理室
石化
等离子体灭菌器
真空包装
ALD科普
ALD—Atomic Layer Deposition原子层沉积,是在基底材料表面制备原子级别的沉积层,这种沉积技术可广泛服务于各类半导体、光学、光电和电池材料的研究,且已经在相当多的IC器件、MEMS、传感器等生产工艺中发挥了巨大的效用。相较于CVD(化学气相沉积)技术,ALD提供了更为精确的沉积层—自饱和的表面产物,厚度可控制在只有一层原子。如果说CVD是在地面摊了一层水泥砂浆,ALD则是把水泥、砂分别均匀完美的涂敷在了材料上,没有任何瑕疵。这种更为精准的层沉积技术为材料带来的性能提升是不言而喻的。比如借助这种技术处理过的光电材料可使最终的光电转换效率提升超过10%。用于FPD等光学显像玻璃时,可使成品亮度、对比度等关键性能大幅度提升。
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